化學(xué)氣相沉積爐
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產(chǎn)品名稱: 化學(xué)氣相沉積爐
產(chǎn)品型號: HTT-CVD
產(chǎn)品展商: 其它品牌
產(chǎn)品文檔: 無相關(guān)文檔
簡單介紹
CVD化學(xué)氣相沉積爐由開啟式單（雙）溫區(qū)管式爐、高真空分子泵系統(tǒng)、壓強(qiáng)控制儀及多通道高精度數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)組成。CVD化學(xué)氣相沉積爐可實(shí)現(xiàn)真空達(dá)0.001Pa混合氣體化學(xué)氣相沉積和擴(kuò)散試驗(yàn)。
化學(xué)氣相沉積爐
的詳細(xì)介紹
主要功能和特點(diǎn)：
1、高真空系統(tǒng)由雙級旋片真空泵和分子泵組成，*高真空可達(dá)0.0001Pa；
2、可配合壓強(qiáng)控制儀控制氣體壓力實(shí)現(xiàn)負(fù)壓的精準(zhǔn)控制；
3、數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)是由多路質(zhì)量流量計(jì)，流量顯示儀等組成，實(shí)現(xiàn)氣體的流量的精密測量和控制；每條氣體管路均配備高壓逆止閥，保證系統(tǒng)的**性和連續(xù)均勻性。
4、采用KF快速法蘭密封，裝卸方便快捷；管路采用世界*Swagelok卡套連接，不漏氣；
5、超溫、過壓時(shí)，自動(dòng)切斷加熱電源及流量計(jì)進(jìn)氣，使用**可靠。
主要用途：
高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD/CVI實(shí)驗(yàn)，特別適用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米線生長、電池材料干燥燒結(jié)等場所。
主要技術(shù)參數(shù)：
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SKGL-1200
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控溫方式
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采用人工智能調(diào)節(jié)技術(shù)，具有PID調(diào)節(jié)、自整定功能，并可編制30段升降溫程序。
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加熱元件
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0Cr27Al7Mo2
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工作電源
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AC220V 50HZ/60HZ
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額定功率
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4KW
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爐管尺寸
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Φ60/Φ80/Φ100*1000mm
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工作溫度
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≤1150℃
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*高溫度
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1200℃
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恒溫精度
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±1℃
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加熱區(qū)長度
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440mm或220mm/220mm
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升溫速度
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≤20℃/min
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密封方式
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不銹鋼快速法蘭擠壓密封
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ZK-F
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真空范圍
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0.1-0.001Pa
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極限真空
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4.0*10^-4Pa
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產(chǎn)品配置
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雙級旋片真空泵+分子泵
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測量方式
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復(fù)合真空計(jì)
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真空規(guī)管
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電阻規(guī)+電離規(guī)
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冷卻方式
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風(fēng)冷
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工作電源
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AC220V 50/60HZ
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抽速
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110L/S
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ZDFC-Ⅲ
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測量范圍
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5～1*10^-5 Pa
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穩(wěn)壓(真空)范圍
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1～5*10^-3Pa
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壓力(真空)穩(wěn)定精度）
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±3%
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控制范圍
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2.5*10^3～1*10^-4 Pa
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控制精度
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± 1%
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HQZ-Ⅲ
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控制方式
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D07-7K質(zhì)量流量計(jì),D08流量顯示儀
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流量規(guī)格
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0－500SCCM /0－1SLM,（可根據(jù)客戶需要配置）
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線性
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±1%F.S
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準(zhǔn)確度
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±1%F.S
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重復(fù)精度
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±0.2%F.S.
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響應(yīng)時(shí)間
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≤2sec
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耐壓
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3MPa
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氣路通道
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3通道（根據(jù)客戶需求）
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針閥
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316不銹鋼
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管道
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Φ6mm不銹鋼管
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接口
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SwagelokΦ6mm
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